半導體和電子產業對於技術和創新的持續發展發揮著重要作用，而這些技術和創新正在改變我們的日常生活。智慧型手機、個人電腦、遊戲裝置等都是有史以來最強大、最複雜技術的一環。這項技術的核心是一個微小的微晶片。儘管這些晶片很小，但卻是現今最複雜的設備之一，製造這些微晶片需要高度敏銳的生產過程。
半導體製造是全球成長最快的產業之一，且新產品持續要求更快的速度與更高的規格。此製程需要可靠且穩定的真空供應。產業內的測試、固定、取放及包裝作業，必須使用乾淨、一致的住家真空。因此，選擇合適的真空泵解決方案對生產製程而言極為重要。
半導體製造的真空需求
住家真空用於任何「積體電路」製造過程的所有取放與處理作業，例如處理、切割、成型、測試等等。由於半導體晶片包含多種元件，因此對於超精密半導體製造的需求至關重要，而真空在生產的每一步中都很重要。
真空度介於 100 到 400 mbar abs. 之間，可確保每個設備均保持在正確水平，並確保不會因回流造成污染。典型的半導體工廠可能需要介於 2000 到 8000 m3/h 的流量，但較大的工廠可能需要超過 12000 m3/h。工廠全年無休運作，住家真空不得發生故障。因此，備援能力與可靠性不可或缺。
適用於半導體產業的阿特拉斯·科普柯節能真空泵
阿特拉斯·科普柯的 GHS VSD⁺ 螺旋式真空泵是半導體產業的熱門選擇，因為 VSD+ 不只是一個「變頻驅動器」。GHS VSD+ 配備一套專屬邏輯控制器和軟體，以在整個晶圓廠內提供一致的真空度。我們的智慧型真空泵是綠色創新領導者，可大幅降低能源消耗，降低環境衝擊以推動永續發展。
阿特拉斯·科普柯也提供完整系列的 DZS VSD+ 乾式爪式真空泵和 LRP VSD+ 水封式真空泵。其耐用且經實證的設計非常適合較小的晶圓廠作業、直接更換現有泵，或低取得成本比總生命週期成本更重要的情況。所有阿特拉斯·科普柯真空泵的容量範圍和 VSD+ 技術都是中央真空系統的理想選擇，半導體晶圓廠中找到的住家真空也包含在內。
受益於阿特拉斯·科普柯創新的機油存留系統
在住家真空網路中，空氣分子會朝真空泵的方向移動，而在設計的真空度下，流量密度仍然相當可觀。因此，油分子和濕氣無法移往製程。真空泵通常位於距離生產廠房較遠的專用設施間內。如此可自由選擇泵技術，無需擔心網路受到碳氫化合物污染。不過，應注意真空泵排放側的環境。
阿特拉斯·科普柯真空泵 (例如 GHS VSD+ 油封螺旋式真空泵系列) 配備優異的機油存留系統。如有需要，可在排氣處安裝額外的過濾系統，以確保在晶圓廠周圍大氣與精密空氣循環/過濾系統中不會增加污染。
如果需要 0 級認證乾式技術真空泵，阿特拉斯·科普柯會提供 DZS VSD+ 乾式爪式真空泵產品系列。
提供一致的真空度
半導體晶圓廠過去曾因真空度大幅波動而產生住家真空問題。由於磨損和溫度變化等環境條件，傳統泵的效能會降低。
阿特拉斯·科普柯的 GHS VSD+ 油潤滑旋轉螺桿設計可在任何環境條件下維持一致的效能。無論製程需要的速度為何，都可以隨時使用。GHS VSD+ 搭載阿特拉斯·科普柯的 VSD+ 技術，可自動加速及減速，以配合不同的真空需求，進而以最高效率維持必要的設定點。
